三苯基氯硅烷
化合物
三苯基氯硅烷是一种有机硅化合物,化学式为(C6H5)3SiCl。
三苯基氯硅烷 | |
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识别 | |
CAS号 | 76-86-8 ![]() |
性质 | |
熔点 | 90—92 °C(363—365 K)[1] |
沸点 | 378 °C(651 K)[2] |
相关物质 | |
相关化学品 | 三甲基氯硅烷 |
若非注明,所有数据均出自标准状态(25 ℃,100 kPa)下。 |
制备
三苯基氯硅烷最初于1886年由A. Polis用五氯化磷和四苯基硅烷按化学计量比反应得到:[3]
性质
三苯基氯硅烷可以和5-溴-1,3-苯二酚在二氯甲烷中反应,得到5-溴-1,3-二(三苯基硅氧基)苯。[4]
另见
参考文献
- ^ Speier, John L.; Zimmerman, Ruth E. Disproportionation of Phenylsilanes with Aluminum Chloride as the Catalyst. Journal of the American Chemical Society. 1955, 77 (23): 6395–6396. ISSN 0002-7863. doi:10.1021/ja01628a110.
- ^ Bochkarev, V. N.; Turetskaya, R. A.; Troitskaya, N. N.; Luskina, B. M.; Savushkina, V. I.; Korablina, T. P.; Dzvonar, V. G.; Chernysheva, N. I. High-boiling by-products from the synthesis of phenylchlorosilanes. Zhurnal Obshchei Khimii, 1983. 53 (4): 824-827. ISSN: 0044-460X
- ^ A. Polis: Ueber aromatische Siliciumverbindungen(德文). In: Berichte der deutschen chemischen Gesellschaft. Band 19, Nr. 1, Januar 1886, S. 1012–1024,
- ^ Pekarek, Ryan T.; Celio, Hugo; Rose, Michael J. Synthetic Insights into Surface Functionalization of Si(111)–R Photoelectrodes: Steric Control and Deprotection of Molecular Passivating Layers. Langmuir. 2018, 34 (22): 6328–6337. ISSN 0743-7463. doi:10.1021/acs.langmuir.7b03564.