国际半导体技术发展蓝图

國際半導體技術發展路線圖International Technology Roadmap for Semiconductors,縮寫為 ITRS),是由世界上五個主要的半導體製造國家的相關協會所資助的組織,這些組織包括台灣韓國日本美國歐洲的半導體行業協會。 許多半導體產業專家組成工作小組每年進行數次討論,並提出一些報告與文檔,以期積體電路與其應用的相關產業能更有成本效益的健全發展。

路線圖文件含有免責聲明:「ITRS的設計僅用於技術評估,並不考慮與單個產品或設備有關的任何商業應用」。

這些文件代表了以下技術領域對未來約15年的研究方向和時間表的最佳意見:

截至2017年,國際半導體技術發展藍圖(ITRS)不再更新。它的繼任者是國際設備和系統路線圖英语International Roadmap for Devices and Systems(IRDS),從而全面地反應各種系統級新技術。

Half-shrink
主節點 半節點
250 nm 220 nm
180 nm 150 nm
130 nm 110 nm
90 nm 80 nm
65 nm 55 nm
45 nm 40 nm
32 nm 28 nm
22 nm 20 nm
14 nm 16 nm
10 nm 11 nm

歷史

製造積體電路或任何半導體元件都需要一系列操作-光刻蝕刻CVD等。隨著行業的發展,每一個步驟通常都是由各個公司製造的專用機器執行的。這種專業化可能使該行業難以發展,因為如果所需的步驟無法在同時完成,則不利於一家公司推出新產品。技術路線圖可以通過在需要某種功能時給出一個想法來幫助實現此一目標。然後,每個供應商都可以為他們的難題指定這個日期。 [1][2][3]

隨著生產製造工具逐漸外包專用設備供應商,出現了明確的路線圖,以預測市場的發展來計劃和控制IC生產的技術需求。幾年來,半導體工業協會(SIA)英语Semiconductor Industry Association將此協調職責賦予了美國,這導致了美國風格路線圖的製定,即國家半導體技術路線圖(NTRS)。[4]

另見

外部链接

  1. ^ Gargini, P. The International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS): Past, present and future. 22nd Annual Gallium Arsenide Integrated Circuit (GaAs IC) Symposium. IEEE: 3–5. 2000. doi:10.1109/GAAS.2000.906261. 
  2. ^ Schaller, R.R. Technological innovation in the semiconductor industry: a case study of the international technology roadmap for semiconductors (ITRS) (PDF) (学位论文). George Mason University. 2004 [2020-09-16]. (原始内容存档 (PDF)于2019-07-28). 
  3. ^ Schaller, R. Technological innovation in the semiconductor industry: a case study of the International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). Management of Engineering and Technology, 2001. PICMET'01. Portland International Conference on 1. IEEE: 195. 2001. doi:10.1109/PICMET.2001.951917.  Article summarizing thesis of the same name.
  4. ^ Spencer, W.J.; Seidel, T.E. National technology roadmaps: the US semiconductor experience. Solid-State and Integrated Circuit Technology, 1995 4th International Conference on. IEEE: 211–220. 1995. doi:10.1109/ICSICT.1995.500069.