首頁
隨機
附近
登入
設定
資助維基百科
關於維基百科
免責聲明
搜尋
MIS結構
語言
監視
本條目存在以下問題
,請協助
改善本條目
或在
討論頁
針對議題發表看法。
此條目的內容
疑似
複製貼上
自某處,涉嫌違反維基百科的
著作權方針
。
(
2014年12月7日
)
請協助移除任何非自由著作權的內容,可使用
工具
檢查是否侵權。請確定本處所指的來源並非屬於任何
維基百科鏡像網站
。
討論頁
或許有相關資訊。
此條目
需要擴充。
(
2014年12月7日
)
請協助
改善這篇條目
,更進一步的訊息可能會在
討論頁
或
擴充請求
中找到。請在擴充條目後將此模板移除。
此條目需要
精通或熟悉相關主題的編者
參與及協助編輯。
(
2014年12月7日
)
請
邀請
適合的人士
改善本條目
。更多的細節與詳情請參見
討論頁
。
此條目
沒有列出任何
參考或來源
。
(
2014年12月7日
)
維基百科所有的內容都應該
可供查證
。請協助補充
可靠來源
以
改善這篇條目
。無法查證的內容可能會因為異議提出而被移除。
MIS結構是研究半導體表面電場效應的一種理想化情況,滿足以下幾個條件: 一、金屬與半導體的功函數差為零 二、在絕緣層內沒有任何電荷且絕緣層完全不導電 三、絕緣體與半導體界面處不存在任何界面狀態